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70℃高低溫循環(huán)一體機-制冷加熱溫控系統(tǒng)

簡要描述:【無錫冠亞】70℃高低溫循環(huán)一體機-制冷加熱溫控系統(tǒng),應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-555W
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-10-14
  • 訪  問  量:230
詳情介紹
品牌冠亞恒溫價格區(qū)間10萬-20萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合

70℃高低溫循環(huán)一體機-制冷加熱溫控系統(tǒng)


無錫冠亞冷熱一體機典型應(yīng)用于:

高壓反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應(yīng)物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導(dǎo)熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風(fēng))cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風(fēng)) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風(fēng)冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


70℃高低溫循環(huán)一體機-制冷加熱溫控系統(tǒng)

70℃高低溫循環(huán)一體機-制冷加熱溫控系統(tǒng)

      

在半導(dǎo)體工藝設(shè)備運行過程中,晶圓制造、芯片封裝測試等環(huán)節(jié)對溫度環(huán)境的要求較為嚴苛,不同工藝階段需準確維持特定溫區(qū),且溫區(qū)間需實現(xiàn)平穩(wěn)切換。動態(tài)控溫系統(tǒng)作為管理多段溫區(qū)的核心技術(shù)方案,通過溫度檢測、算法調(diào)控與執(zhí)行機構(gòu)聯(lián)動,可同時滿足半導(dǎo)體工藝設(shè)備中多個單獨溫區(qū)的準確控制需求,避免溫區(qū)干擾或溫度波動對半導(dǎo)體器件性能造成影響。

一、半導(dǎo)體工藝設(shè)備多段溫區(qū)的劃分與檢測方法

半導(dǎo)體工藝設(shè)備的多段溫區(qū)劃分需結(jié)合工藝流程與設(shè)備結(jié)構(gòu),確保每個溫區(qū)對應(yīng)特定工藝需求,同時通過準確檢測捕捉各溫區(qū)溫度變化。在晶圓處理設(shè)備中,可根據(jù)功能模塊劃分溫區(qū),溫區(qū)劃分需避免相鄰區(qū)域熱量過度傳導(dǎo),通過設(shè)置隔熱層或單獨氣流通道,減少溫區(qū)間的熱干擾,確保各溫區(qū)溫度互不干擾。

溫度檢測是多段溫區(qū)管理的基礎(chǔ),需針對不同溫區(qū)特性配置適配的檢測元件與布局方案。對于高精度溫區(qū),采用高靈敏度溫度傳感器,均勻布置于溫區(qū)關(guān)鍵位置,實時采集多點溫度數(shù)據(jù),通過數(shù)據(jù)結(jié)合技術(shù)計算溫區(qū)平均溫度與局部偏差;對于寬溫度范圍溫區(qū),選擇寬量程檢測元件,確保在溫度劇烈變化時仍能保持檢測穩(wěn)定性。此外,定期對檢測元件進行校準,確保各溫區(qū)檢測值與實際溫度的偏差控制在工藝允許范圍內(nèi)。

二、動態(tài)控溫系統(tǒng)的多溫區(qū)協(xié)同控制方法

半導(dǎo)體工藝設(shè)備的多段溫區(qū)常存在連接關(guān)系,溫度調(diào)整可能影響相鄰溫區(qū),動態(tài)控溫系統(tǒng)需通過協(xié)同控制算法與執(zhí)行機構(gòu)聯(lián)動,實現(xiàn)多溫區(qū)準確調(diào)控。在控制算法方面,采用多變量控制策略,將各溫區(qū)溫度作為單獨控制變量,同時考慮溫區(qū)間的連接效應(yīng),建立關(guān)聯(lián)控制模型。對于需同步調(diào)整的多溫區(qū),采用同步控制算法,確保各溫區(qū)按照預(yù)設(shè)速率同時升降溫,避免因溫區(qū)調(diào)整不同步導(dǎo)致器件應(yīng)力集中。

執(zhí)行機構(gòu)的協(xié)同調(diào)度是實現(xiàn)多溫區(qū)控制的關(guān)鍵,動態(tài)控溫系統(tǒng)需根據(jù)各溫區(qū)的熱負荷需求,合理分配加熱、制冷與介質(zhì)循環(huán)。在加熱調(diào)控上,采用分區(qū)加熱方式,將加熱器劃分為多個單元,針對不同溫區(qū)的升溫需求,避免局部過熱;在制冷調(diào)控上,通過調(diào)節(jié)電子膨脹閥開度、壓縮機運行參數(shù),準確控制各溫區(qū)的制冷量,尤其在高溫向低溫切換的溫區(qū),需動態(tài)調(diào)整制冷速率,防止溫度驟降對器件造成損傷。




70℃高低溫循環(huán)一體機-制冷加熱溫控系統(tǒng)



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