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| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 |
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TCU主要用于反應釜集中控溫的，般是配套使用，在使用TCU反應釜的時候，定要注意清洗，要不然會影響TCU反應釜的高效運行。
TCU反應釜機械清洗：
TCU反應釜機械清洗的時候，采用高壓清洗裝置，使用高壓水流通過噴頭沖刷，將反應釜內壁及攪拌器表面上的堅硬垢物擊碎，*剝離并清除掉。
TCU反應釜機械清洗高壓清洗的原理為將水壓縮高壓，然后通過伸入釜內的清釜機器人上安裝的噴嘴釋放。壓力能轉變為水流的動能，通過這個能量對壁面污垢進行沖擊實現清洗、清除的效果。
TCU反應釜機械清洗是單純的物理清洗，所使用的介質為水，成本非常低，但是效率非常高，高壓水清洗所用時間短，與手工清洗相比較，能節省大量人力、物力、財力，還不會對TCU反應釜造成損傷。
與原來手工清除相比，年下來能夠節省大塊的停釜清洗時間，若將這部分時間用于生產，將能額外產生可觀的經濟效益。同時，高壓水不會對反應釜內壁造成任何損傷。目前在化工行業，高壓水射流清洗已經逐步成為清洗方法的主流。
